Scharfe Sache: Maskentechnologie

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Branchenoptimisten hoffen wiederum, dass die Nanoimprint-Tools den Sprung in die begehrte Chip-Massenproduktion schaffen. Europäische Firmen wie Süss Microtec in Deutschland und EVGroup in Österreich haben Fertigungsmaschinen für die Nanoimprint-Technologie schon entwickelt. Immerhin hat die Molecular Imprints Inc. (MII), einer der führenden Entwickler der Nanoimprint-Technologie in den USA, diese Technik unlängst auf die "International Roadmap for Semiconductors (ITRS)" gesetzt. Diese Roadmap sieht die Nanoimprint-Lithografie derzeit für den 32-nm-Bereich vor, der für das Jahr 2009 anvisiert ist.

In Deutschland verfügt Leica über eine große Expertise zum Beschreiben feinstrukturierter Masken mit Hilfe von Elektronenstrahlen. Das Unternehmen arbeitet auch an einem maskenlosen Verfahren für die Herstellung von Chips. Bei der maskenlosen Lithografie - auch kurz ML2 oder (international) Maskless Lithography genannt - werden die Design-Daten direkt vom Elektronenstrahl in den Resist auf dem Wafer geschrieben. Dieses elegante Verfahren leidet aber unter dem sehr geringen Durchsatz und ist dadurch nur für die Strukturierung weniger Wafer sinnvoll.