Scharfe Sache: Maskentechnologie

Die Nachfolger der Lichtoptik

Neben der Immersions-Lithografie gilt die Nanoimprint-Lithografie als zukunftsträchtige Neuentwicklung. Vorgestellt wurde sie erstmals im Mai 2003 anlässlich der "47th International Conference on Electron, Ion and Photon Beam (EIPBN)" in Tampa im US-Bundesstaat Florida. Bei der Nanoimprint-Lithografie wird eine Art Stempel in eine warme niederviskose Masse - in der Regel ein Polymer - gedrückt. Der Stempel selbst enthält Strukturen im "Sub-100-nm-Bereich", die mit Hilfe eines hochauflösenden Elektronenstrahlschreibers erzeugt wurden.

Behringer spricht in diesem Zusammenhang von einer viel versprechenden Technologie, künftige Anwendungen vermutet er jedoch eher in Form von Nischenlösungen - etwa für die Herstellung von MEMS, optischen Bausteinen und anderen Produkten. Bei der EMC berichtete unter anderem die Universität Wuppertal über die dort entwickelten Nanoimprint-Technologien.