Scharfe Sache: Maskentechnologie

Masken-Hersteller kochen auch nur mit Wasser

"Zurzeit stellt sich die Frage, ob man die 157-nm-Linie überhaupt realisieren wird", sagt EMC-Chairman Dr. Uwe Behringer, Leiter für Technologieverfolgung, Förderung und Standardisierung am Institut für Mikrostrukturtechnik des Forschungszentrums Karlsruhe.

So sei es mit Hilfe eines technischen Kunstgriffs gelungen, im 193-nm-Bereich eine Strukturfeinheit und Strukturqualität zu erzielen, die theoretisch erst mit der 157-nm-Linie machbar wäre. Der Trick beruht auf einer Immersionsschicht, die sich zwischen der Linse und dem Wafer befindet. "Typischerweise ist dies Reinstwasser", erläutert Behringer. Durch das Medium werde der Brechungsindex und damit die Tiefenschärfe erhöht. Auf diese Weise sei es möglich, die Abbildungsqualität zu erhöhen, ohne sich den Risiken der bisher wenig erprobten 157-nm-Technologie auszusetzen.