Scharfe Sache: Maskentechnologie

RET- und OPC-Masken

Auch andere technische Kunstgriffe haben dazu beigetragen, dass sich die optische Lithografie als überlebensfähiger erwiesen hat, als je für möglich gehalten wurde.

In diese Kategorie gehören die so genannten RET-Technologien (Resolution Enhancement Techniques) zur Erhöhung der Auflösung. Unter diesen hat die OPC-Technik (Optical Proximity Correction) die größte Bedeutung erlangt. In der OPC-Technik werden die ursprünglichen Strukturen des Design-Datensatzes so verändert, dass die "Strukturverschmierung" durch die Beugung des Lichts weitgehend kompensiert wird.

Optical Proximity Correction (OPC): Fehler in der Abbildung werden durch vorausberechnete 'Gegenfehler' in der Maske kompensiert. (Quelle: Intel)
Optical Proximity Correction (OPC): Fehler in der Abbildung werden durch vorausberechnete 'Gegenfehler' in der Maske kompensiert. (Quelle: Intel)

So wird zum Beispiel eine quadratische Struktur in der Maske durch die Beugung des Lichts an der Maske und Abbildungsfehler in dem Linsensystem zu einem Kreis im Resist. Durch die OPC-Technik werden die Ecken des Quadrats in der Maske durch zusätzliche Strukturen "ausgebeult", was die Verrundung des Resistbilds minimiert. So sind Strukturfeinheiten machbar, die kleiner sind als die Wellenlänge des verwendeten Lichts. Diese "Sub-Wellenlänge"-Lithografie galt früher physikalisch und technisch betrachtet als nahezu unmöglich.