IBM meldet Erfolge in der Nanotechnologie

IBM-Forscher wollen bei der IEEE-Konferenz in Washington einen Durchbruch bei der Nanotechnologie vermelden. Es sei gelungen, mit selbst anordnenden Polymermolekülen eine Vorlage für die Lithographie zu entwickeln.

"Die Selbstanordnung eröffnet neue Möglichkeiten zur Strukturierung in kleineren Dimensionen, als es bisher möglich war", sagte IBM-Forscher T.C. Chen. Anders als Forchungszweige, die Polymer-Moleküle als Grundlage für die Schaltkreise selbst verwenden, benutzt IBM das selbst anordnende Molekülraster als eine Art Stempelwerkzeug bei der Lithographie von herkömmlichem Siliziumdioxid. Vorteil laut IBM: Techniken und Materialien der herkömmlichen Lithographie können verwendet werden.

Nachdem der so entstandene Silizium-Abdruck weiterbehandelt wurde, bleibe ein Abbild der Polymerstruktur aus Silizium-Nanokristallen im Bereich von 20 Nanometern übrig. Von der Polymervorlage sei dann nichts mehr übrig, hieß es. IBM demonstriert auf dieser Webseite die Funktion des Verfahrens. Die Forschungsergebnisse sollen zudem bei der IEDM gezeigt werden.