Athlons made in Germany

Materialanalyse mit High-Tech

Was im Reinraum produziert wird unterliegt einer ständigen Prüfung durch das "Material Analysis Lab", kurz MAL. Ziel ist hier vor allem die Qualitätsprüfung. Nur wenn sich auf jedem Wafer möglichst wenige Fehler finden ist die Ausbeute, der sogenannte "Yield", hoch genug. Da Kupfer den Halbleiter sehr leicht verunreinigen kann, ist das MAL in der Fab30 besonders wichtig.

Zum Einsatz kommen dort Mikroskope, deren Auflösung hoch genug ist, um die Gitterstruktur des Siliziumkristalls darstellen zu können. Dies ist mit herkömmlichen Raster-Elektronen-Mikroskopen (REM) nicht mehr zu bewerkstelligen.

Stattdessen kommen unter anderem Transmissions-Elektronen-Mikroskope (TEM) zum Einsatz. Die Elektronen werden dabei mit 200 KV beschleunigt und durch ein magnetisches Linsensystem fokussiert. Die so erreichbare Auflösung beträgt bis zu 0,1 Nanometer.

Doch schon 2 Nanometer Auflösung reichen aus, um die Gitterstruktur des Siliziumkristalls sichtbar zu machen und 50 Nanometer stellen einen 0,18-Mikron-Transistor in A4-Größe dar.

Derart kleine Strukturen erst einmal freizulegen ist Aufgabe einer anderen Technologie, die sich "Focussed Ion Beam" nennt.