Intel führt 0,13-Mikron-Prozess ein

Intel hat die Entwicklung des 0,13-Mikron-Herstellungsprozesses abgeschlossen. Als weltweit erstes Unternehmen will Intel in dieser neuen Strukturbreite bereits SRAMs und CPUs hergestellt haben. Neun Fabriken sollen bis 2003 Chips mit 0,13 Mikron produzieren.

Gegenüber den bisherigen Strukturbreiten von 0,18 Mikron, in denen beispielsweise der Pentium III/Coppermine produziert wird, beansprucht ein in 0,13 Mikron hergestellter Chip effektiv nur die Hälfte des Platzes auf einem Wafer. Die kleineren Strukturbreiten bedingen auch eine geringere Versorgungsspannung und erlauben wegen der dadurch verringerten Verlustleistung höhere Taktfrequenzen. Die gegenwärtigen 0,13 Mikron entsprechen in den Ausmaßen nur einem Tausendstel der Breite eines menschlichen Haares.

Bei Intels "P860" getauftem Herstellungsverfahren kommen sechs Metallisierungslagen mit Kupfer-Verbindungen zum Einsatz. Über die Vorteile dieser Technologie informieren die Reports Kupfer in der Halbleiterfertigung und Moderne Halbleitertechnologien. Die nachfolgenden Bilder stammen von Intel.

Querschnitt: Die hellen Bereiche stellen die Kupfer-Verbindungen dar.

Im Vergleich zu AMD, die auf ihre Kupferfabrik Fab30 in Dresden mehr als stolz sind, hat Intel den Schritt mit 0,18 Mikron und Kupfer-Interconnects übersprungen. Der Prozessor-Primus beansprucht mit der neuen Technologie nun wieder den Titel des modernsten Herstellungsverfahrens.

Dem trägt auch Rechnung, dass die eigentlichen Transistoren im neuen Prozess einer radikalen Schrumpfkur unterworden wurden. Die Gate-Länge beträgt nur noch 0,07 Mikron (70 Nanometer). Das Gate-Oxid ist dabei nur noch ganze 1,5 Nanometer dick, was nur wenigen Atomlagen entspricht.

Schaltzwerg: Transistor mit 70 nm Gatelänge, das Oxid am Boden ist kaum sichtbar.

Derart winzige Transistoren sind die Basis für noch schnellere Chips. Intel will mit dem P860-Prozess CPUs mit mehreren Gigahertz herstellen, die zu Anfang nur eine Kernspannung von 1,3 Volt (Coppermine: 1,65 bis 1,7 Volt) benötigen.

Um welche CPUs es sich dabei handelt, ist offiziell noch nicht bekannt. Intel gibt derzeit nur an, SRAMs und Mikroprozessoren hergestellt zu haben - ohne Typangabe. Aus anderen Quellen ist aber bekannt, dass Mitte 2001 unter dem Namen "Coppermine-T" eine upgedatete Version des Pentium III im neuen Herstellungsprozess ansteht.

Noch davor soll die Version des Pentium 4 für Server und Workstations, Foster, mit 0,13 Mikron kommen. Über die technischen Details von Foster hatte tecChannel.de bereits ausführlich berichtet. Auch für den Pentium 4, der noch in diesem Jahr in 0,18µ-Technologie kommt, ist unter dem Codenamen "Northwood" für Mitte 2001 eine Version mit 0,13 Mikron geplant.

Gefertigt werden sollen all diese Chips in 0,13 Mikron - zu denen auch Intels Speicherbausteine gehören - bis Mitte 2003 in neun Fabriken. Drei davon befinden sich noch im Bau. Ebenfalls drei Fabriken sollen Wafer mit 300 Millimetern Durchmesser herstellen. Die erste 0,13-Mikron-Fab wird Intels Fab20 in Ronler Acres im US-Bundesstaat Oregon sein. Sie soll noch im ersten Quartal 2001 die Serienfertigung aufnehmen. (nie)